SỰ PHÁT TRIỂN HETEROEPITAXY CỦA MÀNG WO3 TRÊN BỀ MẶT ITO(400) VÀ ẢNH HƯỞNG CỦA ĐỘ DÀY LỚP ITO TRÊN ĐẾ THỦY TINH LÊN HƯỚNG PHÁT TRIỂN CỦA MẠNG WO3

  • Lê Văn Ngọc
  • Trần Cao Vinh
  • Trần Tuấn
  • Huỳnh Thành Đạt
  • Dương Ái Phương
  • Lê Quang Toại
  • Bạch Văn Hòa

Tóm tắt

Màng WO3 được lắng đọng bằng phương pháp phún xạ magnetron RF trên lớp phủ ITO(400) của thủy tinh. Thực nghiệm cho thấy rằng hướng phát triển của mạng tinh thể WO3 phụ thuộc vào độ dày của lớp ITO. Trong bài báo này sự phụ thuộc đó sẽ được thảo luận sâu hơn.
điểm /   đánh giá
Phát hành ngày
2010-04-14
In ra
Tập. 12 Số. 12 (2009)
Chuyên mục
BÀI BÁO
Copyright belongs to VNU-HCM “Science and Technology Development” Journal. Any copy or reprinting of any form must be permitted by the Journal.