KHẢO SÁT ẢNH HƯỞNG CỦA CHIỀU CAO VÀ ĐỘ CONG BỀ MẶT MẪU LÊN ĐẶC TÍNH KHỬ PHẢN XẠ CỦA LỚP MÀNG DLC PHỦ TRÊN ĐẾ Si BẰNG CÔNG NGHỆ PECVD

Tóm tắt

Trong lĩnh vực an ninh, khí tài ảnh nhiệt ngày càng được sử dụng phổ biến trong các hệ thống giám sát và thường hoạt động trong điều kiện môi trường khắc nghiệt. Để bảo vệ khí tài ảnh nhiệt, người ta thường sử dụng lớp màng cacbon giả kim cương (DLC) mạ lên thấu kính ngoài cùng hoặc kính bảo vệ do màng DLC có khả năng chống mài mòn, độ cứng cao, chịu được môi trường khắc nghiệt và trong suốt trong vùng phổ hồng ngoại của ảnh nhiệt. Trong các thí nghiệm của chúng tôi, màng DLC được mạ phủ bởi phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường bằng plasma (PECVD) trên thiết bị Aegis DLC-PECVD của hãng Intlvac (Canada). Tuy nhiên, khi phủ các chi tiết quang học có kích thước lớn, sự thay đổi cấu hình plasma có thể gây ra hiện tượng không đồng nhất của lớp phủ. Bài báo trình bày các kết quả thực nghiệm mạ màng DLC khử phản xạ cho vật liệu Si trong vùng phổ từ
3-5 µm và thông qua phổ truyền qua, khảo sát sự đồng đều của lớp màng DLC trên các mẫu Si đặt ở các vị trí khác nhau trong buồng mạ. Kết quả thực nghiệm cho thấy, khi độ cao đặt mẫu thay đổi từ 0-40 mm so với điện cực của nguồn plasma, phổ truyền qua của các mẫu gần như không có sự thay đổi về hình dạng, cường độ phổ truyền qua thay đổi nhẹ trong khoảng 1,6% với các mẫu được phủ DLC lên một mặt. Với các mẫu đặt ở độ nghiêng khác nhau, vị trí đỉnh phổ có sự dịch chuyển về bước sóng dài từ 3,4-4 µm ứng với góc pháp tuyến từ 0-50 độ. Các kết quả thực nghiệm này giúp định hướng tối ưu hóa thiết kế bộ gá mẫu giúp cải thiện độ đồng đều của màng DLC trên thấu kính ảnh nhiệt kích thước lớn.