Đánh giá sự phù hợp của tích hợp Topsis - Taguchi để tối ưu hóa đa mục tiêu thông số công nghệ trong gia công bằng PMEDM

Tóm tắt

Trong bài báo này, hiệu quả của sự tích hợp phương pháp Topsis với Taguchi
(Taguchi - Topsis) để giải bài toán tối ưu hóa đa mục tiêu trong xung định hình
với bột trộn vào dung dịch điện môi (PMEDM) sẽ được đánh giá. Các thông số
công nghệ được lựa chọn để khảo sát gồm: vật liệu phôi, vật liệu điện cực, sự
phân cực điện cực, thời gian phát xung (ton), thời gian ngừng phát xung (tof),
cường độ dòng điện (I), nồng độ bột Ti. Kết quả cho thấy rằng, Các thông số
như:vật liệu điện cực, nồng độ bột, thời gian phát xung, sự phân cực điện cực,
cường độ dòng điện, tương tác AG và tương tác BG là ảnh hưởng mạnh đến hệ
số S/N của C*. Nồng độ bột là thông số có ảnh hưởng mạnh nhất. Bộ thông số tối
ưu là SKT4, Cu(-), ton = 5s, I = 4, tof = 57s, 10g/l. Trị số tối ưu: Nhám bề mặt
Ra = 2,34m và độ cứng tế vi bề mặt gia công HV = 904,96 HV. Tuy nhiên, sự
tích hợp Taguchi- Topsis để tối ưu hóa đa mục tiêu là chưa thực sự phù hợp.