Mô hình hai chiều trong mô phỏng ảnh hưởng của bias điện áp tới dòng hạt

Tóm tắt

Mô hình mô phỏng không gian hai chiều được xây dựng để kiểm nghiệm lại ảnh hưởng của bias điện áp lên dòng hạt plasma và thông lượng của chúng tác động lên bề mặt kim loại. Trong mô hình này, dòng hạt electron và ion được thêm vào liên tục và di chuyển xoay quanh các đường sức từ để tiến tới bề mặt kim loại. Kết quả cho thấy rằng, bias điện áp ngăn chặn số lượng lớn các hạt electron và ion tiến tới bề mặt kim loại, giảm tải được dòng hạt tấn công vào khu vực này.